Ondo Beauty maska na tvár HYALURONIC ACID & ALGAE

Ak vaša pleť pôsobí mdlá, unavená alebo dehydratovaná, Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask jej dodá okamžitú dávku hydratácie a žiarivosti. Táto biologicky odbúrateľná látková maska obsahuje až 88 % vody z lieskovca (hamamel virgínsky), ktorá upokojuje, čistí a sťahuje póry.

✔ Komplex 8 morských rastlín a morského narcisu obohacuje pleť o vitamíny, minerály a antioxidanty.
✔ Niacínamid (2%) rozjasňuje, vyrovnáva tón pleti a zlepšuje jej elasticitu.
✔ Aquaxyl optimalizuje prietok vody v pokožke a udržiava jej hydratáciu až 8 hodín.
✔ Viacmolekulová kyselina hyalurónová preniká do hlbších vrstiev pokožky a vyhladzuje jemné linky.

Táto maska je ideálna pre všetky typy pleti, najmä pre suchú a dehydratovanú pleť, ktorá túži po efektívnej hydratácii a zdravo vyzerajúcej pleti v štýle kórejskej glass skin. Skvelá pred líčením alebo na dlhé lety, kde pomáha udržať sviežosť pokožky.

„Chok-Chok“ je populárne kórejské slovo, ktoré opisuje pleť so žiarivým a vysoko hydratovaným vzhľadom.

🌱 100% biologicky odbúrateľná – šetrná k pleti aj k prírode.
⚠ Obsahuje esenciálne oleje – počas tehotenstva odporúčame konzultáciu s lekárom.

Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*. *Naturally occurring in essential oils

Naneste na vyčistenú tvár. Po 10-15 minútach masku odstráňte a vmasírujte zvyšné sérum do pokožky, kým sa úplne nevstrebe. Neoplachujte. Maska Chok Chok môže byť použitá na prípravu pokožky na make-up, pretože pomáha zlepšiť textúru pleti.